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        工具:赝电容k1Tool-v2.6解决拟合交叉问题

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        感谢日本九州大学的郝博士提问:赝电容拟合时怎样避免交叉线?谭编研究了CV曲线的特征,并将工具升级到v2.6完美解决交叉问题。非常感谢郝博士的贡献和交流,促使了k1Tool的升级。

        相信有不少同学还在为那些交叉的赝电容曲线而烦恼。这些交叉线往往会使赝电容的贡献率大打折扣。不少同学坐不住了,赶紧将那些被你嫌弃的数据,利用k1Tool V2.6拟合一下吧!

        图1

        理想状态下,在极慢的CV扫描速度下,电极过程动力学越趋于可逆的平衡态。但是实际状况下,多种因素可能导致不同扫描速度下,某些局部区域电流随扫描速度并不满足线性关系(图1(a))。

        CV曲线出现线性“塌陷”,拟合优度(Goodness of Fit)(确定系数)R^2并不高(例如图1(c)中绝大多数点的R^2低于0.9),当然我们可以通过k1Tool V2.6丢弃这些局部异常区域,得到图1(d)的结果。

        ROng>1.k1Tool V2.6的使用方法

        图2k1Tool V2.6的使用方法

        该工具的链接:

        http://journal.scnu.edu.cn/editortan/cc/v2.6/

        二维码:

        2. 赝电容曲线的绘制方法

        选中我们需要绘制的某个扫速数据(例如1.5mV/s的Eik1v),点击下方的模板库按钮,找到谭编之前设计的赝电容模板,绘制出草图。这个草图很怪,因为我们拟合的曲线是断断续续的(因为丢弃了R^2低于0.95的数据)。此时,双击拟合曲线,去除线下填充,然后点击断续的拟合曲线,选择菜单“Analysis-Mathematics-Trace interpolation”插值外推的方法重建一条完整的曲线,在弹窗中直接按确定即可。

        图3断续的赝电容曲线绘制方法

        最终得到如下曲线

        这里用到【190903A】赝电容模板,请转发本文到朋友圈,发截图给谭编免费领取该模板,或者打赏哦。

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